5 de octubre de 2026. La Alcaldía de San Salvador Centro, en coordinación con la Autoridad del Centro Histórico de San Salvador y Shopping Center, anunció la sexta edición del evento benéfico Moda Por Una Causa, que se llevará a cabo el jueves 5 de noviembre a las 6:00 p. m. en el Pasaje Morazán, contiguo a la Plaza Universitaria. Todos los ingresos generados por la venta de boletos serán donados a la Fundación para el Desarrollo de San Salvador.
“Moda Por Una Causa 2026 busca consolidar al Centro Histórico de San Salvador como una vitrina de la moda nacional e internacional, reafirmando su compromiso de utilizar la moda como una plataforma de desarrollo, generación de oportunidades y proyección del talento”, destacó Manuel Rodríguez, director de Cooperación y Relaciones Internacionales de la Comuna Central.
El evento reunirá el talento de destacados diseñadores y marcas nacionales e internacionales, entre ellos: Juan Carlos Najarro, Mónica Arguedas, Hermis Cárcamo, Charlie Mendoza, Está de Moda, Clúster Smoda y la Universidad Francisco Gavidia (El Salvador); Erick Bendaña y Nicaragua Diseña (Nicaragua); Inter Child (Guatemala); Manyu Art (Costa Rica); y Michell Vera (Colombia). Para 2027, el proyecto contempla ampliar todavía más su alcance con la incorporación de Panamá, Honduras y República Dominicana.
La pasarela se engalanará con 45 modelos masculinos y femeninos de proyección internacional, representando a El Salvador, Guatemala, Nicaragua, Costa Rica, Argentina, Estados Unidos y China.
“Esta iniciativa busca generar una experiencia integral que trascienda la pasarela y permita a los asistentes apreciar la riqueza cultural, arquitectónica e histórica del corazón de la capital. De esta manera, la moda se convierte en un dinamizador del turismo y de alianzas internacionales para nuestro país”, afirmó Juan Carlos Najarro, director de Moda Por Una Causa.
Las entradas ya se encuentran disponibles en modaporunacausa.com, con un costo de $30.00 para la localidad Front Row (Primera Fila) y $15.00 para Entrada General.
